日本ファインセラミックス株式會社(JFC )近日宣布,已成功試製出透光性氧化鋁基板(約300 mm見方尺寸),該產品預計將在半導體製造過程中的先進封裝領域中需求持續擴大。

此透光性氧化鋁基板以高純度氧化鋁(99.99%以上)為原料製成,已確認具備以下特性:


此透光性氧化鋁基板以高純度氧化鋁(99.99%以上)為原料製成,已確認具備以下特性:
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●在紫外線(UV)至紅外線(IR)波段具有較高光透過率 -
●具備與藍寶石(sapphire)同等程度的高剛性 -
●具有優異的耐化學腐蝕性能


