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導入乾式EUV光罩潔淨技術 台積電兩年節能20億元

台積電在最新一期社會責任電子報發布最新極紫外光(EUV)技術。台積電首創「乾式EUV光罩潔淨技術」,可減省735公噸高純水,減省36公噸化學品,同時提升80%的EUV光罩使用率,累計創造新台幣20億元改善效益。

台積電為達優質的EUV微影良率並實踐綠色製造使命,首創環境友善的「乾式EUV光罩潔淨技術」取代傳統的沖洗流程,透過分析落塵、排除汙染源的方式,成功使機台內每一萬片晶圓曝片的落塵數從數百顆減少到個位顆數,落塵率削減99%;導入試產迄今累計節水量約735公噸,降低化學品使用量約36公噸。

台積電表示,依製程的需求,EUV微影製程光罩分為有/無保護膜二種。台積電選用無保護膜的EUV光罩以提高透光性,減少EUV微影製程曝光光能損耗;為進一步解決無保護膜EUV光罩的落塵問題,台積電品質暨可靠性組織攜手技術發展、營運組織,2018年起共同開發落塵分析技術。

台積電藉由乾式EUV光罩潔淨技術的創新,不僅達成利用EUV微影半導體設備製程技術領先量產的目標,同時資源使用效率亦進一步提升,自2018年導入試產迄今,除有效減省水、化學品等能資源使用量之外,依據生產週期控管系統顯示,乾式潔淨技術導入後大幅縮短光罩保修頻率與時間,除使光罩使用率躍升超過80%,亦延長先進製程EUV光罩壽命,累計創造的改善效益達新台幣20億元。

台積電去年進一步發展乾式EUV光罩潔淨技術自動化,已於今年1月全面導入12吋晶圓廠區量產。台積電已於Fab 12B廠、Fab 15B廠、Fab 18廠自動化系統導入量產,優化乾式EUV光罩技術可分析與清潔小於50奈米落塵。