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EUV(13.5nm)深紫外線光源 XUUS

半導體設備

EUV(13.5nm)深紫外線光源 XUUS

引進EUV(13.5nm)量測用光源 
• 使用400nm的波長泵浦,可産生22eV的光子能量。
• 使用1.3μm來泵浦,可産生200eV以上的光子能量。

介紹

• XUUS是目前市場上最穩定和强大的桌面型HHG發生器。産生的EUV光源可用于半導體材料、相干衍射成像(CDI)和原子分子學光譜等研究方向。
• 此系統可以與來自不同的公司,不同波長的飛秒激光器配套使用,以産生更寬光譜範圍和更高的光子能量來適應您的實驗和應用目標。
• 此系統同時兼顧30nm和13nm的輸出,不僅可以用傳統的鈦寶石放大器泵浦也可以用不同波長的其它飛秒激光器泵浦。